氧化硅片
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氧化硅片

产品编号:JAH-SiO2 Wafer

产品产地:

产品描述:氧化硅片,二氧化硅片,氧化硅片厂家

产品介绍

产品简介:

       二氧化硅片是指在硅片表面热生长一层均匀的介质薄膜,用作绝缘、或者掩模材料。氧化工艺包括高温干氧氧化、高温湿氧氧化公司采用进口先进氧化设备、工艺实现氧化层均匀、准确的生成。

产品特点:

 氧化层厚度均匀   平整度好    翘曲度小 

 尺寸公差小      表面无光滑无瑕疵

产品规格说明

外形尺寸:

1",2",3",4",5",6",7 ~ 12"

可定制

型号

N/ P型、本征(不掺杂)

客户要求

直径:

50 300mm

 

总厚度:

250 600 μm

可定制

厚度误差

±10μm

 

氧化层厚度

50nm 2000nm(常规100nm,200nm,300nm,500nm,1000nm)

客户要求

平整度(TIR

< 3 μm

 

翘曲度(BOW

15μm

 

TTV:

15μm,30μm

 

粗糙度

< 0.5nm

 

电阻率:

0.00120000 (Ω·cm)

客户要求

晶向

100〉;〈110〉;〈111

 

级别

IC

 

表面处理

单抛,双抛,研磨

客户要求

 

  

   

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